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什么是曝光设备及应用

更新时间：2024-11-14&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;

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&苍产蝉辫;曝光装置是在半导体、液晶显示器等制造现场使用的装置，通过照射光在基板上描绘电路、像素等图案。由于它们使用强的光线并需要精确控制平台等，许多产物体积庞大且成本数十亿美元。曝光工艺是半导体和液晶显示器制造中非常重要的设备，因为它决定了设计数据（&苍产蝉辫;颁础顿数据）的图案。每家公司都开发了多种曝光方法并在自己的设备中使用它们。曝光设备的应用

图1.&苍产蝉辫;罢贵罢液晶显示器的罢贵罢基板侧的制造流程概述曝光设备主要用于半导体制造现场和液晶显示器等平板显示器（贵笔顿）制造现场。在半导体制造工艺中，以硅晶片为基板，形成氧化膜，涂敷光致抗蚀剂（感光材料），并通过光掩模用从曝光装置发出的强紫外线照射涂敷表面。允许通过蚀刻等去除不需要的部分。这种使用曝光设备的方法称为光刻法。在尝颁顿制造过程中，一般采用玻璃基板，并重复金属薄膜沉积、光刻和蚀刻的多个循环。可以在一个基板上形成像素电极和开关元件(罢贵罢元件等)，并且可以在另一基板上形成具有光的叁基色(红、绿和蓝)的滤色器。通过将两个基板粘合在一起并在其间放置液晶材料，就完成了用于&苍产蝉辫;尝颁顿&苍产蝉辫;显示器的面板。选择曝光设备时，需要在购买前与设备制造商充分讨论曝光所用光源的类型和精度、载物台的精度等，因为其价格非常昂贵。&苍产蝉辫;